Бизнес-центр ИТКОЛ-Бауманская

г. Москва ЦАО Басманный ул Фридриха Энгельса На карте
ИТКОЛ-Бауманская

Основные характеристики

  • Тип объекта
    бизнес-центр
  • Статус
    Действующий
  • Общая площадь
    10 654 м2
  • Этажность
    8
  • Год постройки
    1989
  • Тип помещений
    офисы
  • Высота потолков
    3,2 м
  • Парковка
    Есть

Инженерные системы

  • Вентиляция
    Есть
  • Кондиционирование
    местное
  • Система пожаротушения
    сигнализация
  • Отопление
    центральное

Охрана

  • Пропускная система
    Есть
  • Пожарная сигнализация
    Есть

Дополнительные характеристики

  • Количество корпусов
    1
  • Арендаторы
    Левел Тревел, Телеком-Сервис, Глав-Печать, RELAX MODE, ТОП-ЛОК
  • Наличие лифтов
    Есть
  • Число лифтов
    3
  • Состояние помещений
    типовой ремонт
  • Инфраструктура
    столовая
  • Тип парковки
    наземная

Планировки Во весь экран

Местоположение

Москва, ЦАО, Басманный район, улица Фридриха Энгельса, д. 75, стр. 21

Расположение


Похожие бизнес-центры

  • По удаленности
Площадь 20 000 м2
Офисы от 22 до 942 м2
4 этажа
Построен в 2000
аренда ПСН
аренда торговых помещений
аренда офисов
141 600 — 3 000 000
80 010 — 6 000 000
60 000 — 225 000
Площадь 32 269 м2
9 этажей
Построен в 2003
аренда офисов
85 000 — 1 311 750
Площадь 8 500 м2
7 этажей
Построен в 1914
аренда ПСН
аренда офисов
35 000 — 186 000
19 000 — 363 000
Площадь 11 300 м2
Офисы от 36 до 2074 м2
6 этажей
Построен в 1983
продажа офисов
16 132 330 — 59 274 180
Площадь 13000 м2
Офисы от 38 до 379 м2
9 этажей
Построен в 2026

ГК ОСНОВА

ЭМОУШН - новый стандарт офисной недвижимости
Москва, 2-й Силикатный проезд
Офисы класса "А" в перспективной локации Большого Сити. Панорамные окна и зоны отдыха. Рассрочка 0%.
ОЦЕНИВАЙТЕ СВОИ ФИНАНСОВЫЕ ВОЗМОЖНОСТИ И РИСКИ. ИЗУЧИТЕ ВСЕ УСЛОВИЯ РАССРОЧКИ НА САЙТЕ ЗАСТРОЙЩИКА. РАССРОЧКА НЕ ЯВЛЯЕТСЯ КРЕДИТОМ. Реклама. ЭМОУШН. Рассрочку предоставляет Застройщик ГК ОСНОВА сроком до 30.05.2027г. Первоначальный взнос 30%. Проектная декларация на сайте наш.дом.рф и gk-osnova.ru.